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第116章 對光源係統的改進

  即便郭一這樣說了,林欣還是久久沒有平靜下來。


  這概念,就算是幻想,大概也沒人這麽想過吧?

  人工製造類蛋白無機物大分子,還要有蛋白質的功能和特性,進而形成“無機物仿造人”這種無機生物存在的物質基礎?

  這就是天才的腦回路嗎?


  不管能不能成,光是這想法本身,那就是一件壯舉!

  林欣想了許久,隻覺得郭一的這想法實在是太瘋狂,再想下去,自己怕不是要瘋,於是問道:


  “那個,什麽,係統改造的事情怎麽樣了?”


  “哦,現在還沒完,比我預想的做的多了一些,而且光的鄰近效應的修正算法比我的要複雜的多,耽誤了一些功夫。”


  郭一說道:“不過沒關係,我已經聯係徐陽,把一些簡單的改造設計好基礎框架之後交給他們去實現了。我這邊馬上就完工,看徐陽那邊的進度吧,最慢預計後天也就能結束。”


  這些天,林欣閑著沒事兒的時候,也了解了一些光刻的常識。


  知道在超大規模集成電路的工藝中,193n光刻波長的衍射、幹涉等光學臨近效應會形成致命問題。


  她雖然不知道這個修正算法的難度有多大,但想來也會簡單。


  經過這些日子的了解,林欣可是知道,除了光刻機鏡頭之外,解決光衍射、幹涉等光學臨近效應的問題,也是光刻機技術突破的關鍵因素。


  如果光學臨近效應這個問題能夠解決,28n甚至級別的光刻機技術就又能向前一步了!


  國內廠商,苦苦研究十幾年而不得的技術,郭一說改進就改進了?


  “其實也沒有那麽難,隻要細致觀察,仔細推理,這其中的修正方案也並不難實現。”


  郭一說道:“無非是改進了一下修正模型,使得建立的光刻模型更加精確、計算速度更快了一點,僅此而已。”


  “模型更精確,速度反而更快了,還說僅此而已?”林欣嘟囔道:“真是一個非人類。”


  “哈哈!”郭一可是注意到了,林欣說這話的時候,那可是滿臉的驕傲神色。


  ……


  “常工,這升級方案看起來有一些怪異啊,我怎麽有些看不懂?”


  郭一領人改造光刻機係統的時候,a1廠的升級改造也在穩步就班的進行著,何興也是一邊調整著設備的參數,一邊跟身旁的常凱聊著。


  “怎麽看不懂啊?我看這數據很清晰,該怎麽做也很明了啊,何工,你有哪兒看不懂?”常凱說道。


  “常工,我不是說實施方案看不懂。”何興說道:

  “我是說,這樣升級原理,我完全沒搞明白。這樣的升級就能實現的生產嗎?

  經過我的測算,這樣改造之後,工藝製程不但難以升級,不降級就不錯了。”


  “成與不成的,等過幾天就知道了。”


  常凱其實也早就發現了,這樣的改變,根本不足以改進生產工藝,隻不過他想的比何興更加深入了一些,其中太過複雜,不是一句話兩句話能說清楚的。


  不僅何興和常凱,幾乎所有參與這次升級改造工作的工程師都發現了這樣的情況,甚至還有人跟安城跟郭一確認過,是不是方案有什麽問題。


  但郭一確認,就按這個方案實施,其他的讓他們不用管。


  在各位工程師的眼裏,這樣的改造比起14n的工藝甚至有一些倒退,但是,工作既然是這樣安排的,郭一既然如此的有信心,那就折騰一番也無妨。


  實在不行,也就是耽誤幾天生產的事兒,大不了之後再改回來就是了,也不費多大的功夫。


  如果不是郭一露了一手在先,人還沒到就把28n了,那今天再讓這些工程們做今天這樣的事情,所有人都會質疑,甚至是會反對的。


  但現在,他們雖然都發現了端倪,但經過郭一確認後,他們都沒再吱聲。


  老老實實的按照郭一的方案改造著,一邊改造,還一邊在思考,這其中究竟有沒有什麽特別的用意?我究竟有沒有哪個地方疏忽還是漏掉了?


  這就是權威的作用,隻露了一手的郭一,現在在這些工程師眼裏,那已經成了權威。


  廢話,全世界沒人能做到的事情,人家沒露麵就做到了,這還不是權威,那什麽才是權威?

  何興瞅了瞅常凱,心裏有些不安:難道這家夥已經看懂這些改造的端倪了?他怎麽就這麽淡定?這麽從容?


  芯片生產工藝本身就是一個極為複雜的過程,牽一發而動全身,考慮不周的情況實在是不罕見。


  確實會存在某個步驟誤差比較大,卻是故意而為的情況。


  其目的就是為了衝抵另一個過程造成的誤差,這是一種衝抵矯正方案。


  完成了自己的工作之後,何興又仔細的研究了一遍整體的方案,還是沒有發現任何的端倪。


  在現有的光刻機條件下,這樣的改造確實提升不了生產工藝和良率,反倒會增加曝光後圖形的偏差。


  “等等!現有的光刻機條件?”何興突然意識到了什麽:“郭工現在可是不在啊,他幹什麽去了?莫非……”


  一個大膽的念頭從何興的腦海裏冒了出來:那就是升級光刻機!


  升級硬件當然是不可能的,但升級軟件……


  “光學臨近效應引起的圖像偏差問題!”何興立即意識到問題的關鍵所在。


  他一直在a1廠,這台光刻機他可以說是了如指掌,光刻機的控製程序確實有可以升級的空間,他們一直也跟廠家有反饋。


  但,那都是小打小鬧似的升級。


  “如果,徹底改造控製程序,進一步修正193n極限工藝下的鄰近效應導致的曝光圖像偏差問題……”


  何興腦洞大開,有了這樣的想法,即便知道沒什麽可能,他還是立即對這個方案進行了計算驗證。


  不計算還好,這一計算,何興是直接被驚到了——郭一的改造方案竟然真的是照著這個思路再走!


  換言之,郭一的改造方案就是這個!

  “他竟然真的能夠進一步改進光學鄰近效應引起的圖像偏差?”


  看著最終的計算的數據竟然如此吻合,何興也是直接癱在了椅子上:


  “他也不是生產光刻機的專家啊,這可能嗎這?這要讓魔都微電子知道了,他們不得瘋掉啊!這哪是改進生產工藝啊,這直接是改造光刻機了都!”


  即便何興不是光刻機的專業人士,他也知道光刻機最大的兩個核心部件,一個就是鏡頭,另一個就是光源。


  光源最核心的問題,其實就是修正這個光學臨近效應引起的圖像偏差。

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