第808章 正確的技術路線
良久……
辦公桌和辦公椅一片狼藉,甚至就辦公電腦,都因為茶杯被撞到,水流進機箱燒毀了主板而報廢。
好在孟欣的電腦上的材料都有備份,定期會上傳到實驗室的加密的內部存儲伺服器中。但的慣用的一台辦公電腦,出現了這種問題,不僅讓蒙欣生氣的將林棋掐的胳膊上青一塊紅一塊。林棋自然是還以顏色,讓她知道,這個世界終究還是男人更厲害。
「要死啦!真是的,只管自己舒服,不管後果!」在完事後,蒙欣將痕迹擦乾淨,並開始整理衣服,打掃辦公室,說道,「就知道給我添亂,電腦裡面資料,至少是幾個小時勞動成果。算成人民幣,少數幾百萬。」
「是,是!老婆大人,對不起!」林棋滿足了之後,心情還是不錯的,幫蒙欣收拾混亂的辦公室。
「知道錯了?」
「嗯!」
「這麼放過你,我氣不過!給我重裝一台電腦,別人不許裝忙!」
「不是吧?老婆大人,直接讓後勤部門送一台新的整機不就好了?」
「這是懲罰,我樂意!」
蒙欣打電話給公司實驗室的後勤部門,將報廢的電腦拿出去看看能不能修理恢複數據,不能的話,報廢的電子元件也不能外流,而是通過物理手段銷毀。
要知道,即使是報廢的電腦,裡面也可能殘留一些重要的資料,為了避免流失,重要的科研機構,最好是將硬碟之類的重要存儲硬體給銷毀。當然了,為了管理更完善,其他部件也不能外流。
之後,林棋在蒙欣的脅迫下,跟她一起組裝新的辦公電腦。原本,可以送整機過來的,但是蒙欣為了懲罰林棋,所以,讓人送硬體過來,之後,開始指揮林棋,將硬體組裝起來。遇到林棋笨手笨腳的樣子,蒙欣通過嘲諷來獲得愉悅。
也多虧林棋脾氣好,要不然真的會翻臉。
苦逼的拿著裝機手冊,在孟欣的笑話中,開始將這個年代頂級配置的辦公電腦裝好了。雖然,是不可能跟21世紀的電腦相比,但是已經是這個年代辦公電腦的頂配。
雖然,裝機的過程已經不斷的優化,已經很照顧小白了。但是,林棋還是覺得真尼瑪的累人,所以,也打算回去繼續讓公司簡化下一代盤古電腦的裝機。不需要任何技術,不需要任何經驗,都可以快速安裝,才是王道。
忙完了之後,蒙欣噗嗤一笑,給林棋擦汗,說道:「老公,辛苦了,看你累的。」
「累個屁,不累!」林棋一語雙關,「不服的話,再戰第二回合。」
由於憋了幾個月,讓林棋感覺自己比以往要神勇的多。
「去你的!」蒙欣白了他一眼,說道,「我還有忙不完的事情呢,以為我跟你一樣,越老越不正經。」
……
國產0.5微米光刻機雖然已經研發成功,但是為了避免打草驚蛇,所以,暫時並未準備大張旗鼓的在新聞上進行宣傳。
而且,在技術上也是遮遮掩掩,避免更快是被競爭對手了解技術方向。
反正現階段,0.5微米的光刻機,也不需要對外出售。
現階段,林蒙科技公司盈利模式,一方面是專利費,另外一方面則是光刻機。在專利數量方面,林蒙科技看起來不如新創業電子,一年也就註冊一千多個國際專利,國內專利每年註冊數量也不超過3000個。各種外觀專利和一些應用專利,林蒙科技公司都不屑於註冊,註冊的基本上都是一些技術含量非常高的核心科技。
比如,現在的0.5微米光刻機,就不是模仿現在的光刻機廠商的主流技術,而是應用了90年代還未普及的新技術,沉浸式光刻技術。
用沉浸式光刻技術來做0.5微米的光刻機,也就是500納米,有點殺雞用了牛刀的感覺,但是如果現在不用的話,以後這些專利可能會被別人註冊。所以,即使殺雞用了牛刀,也先提前占坑!
光刻機在60年代開始問世,一開始是接觸式光刻機、接近式光刻機,到70年代逐漸升級到了投影式光刻機,使得半導體工藝水平,逐漸開始代表人類最精密的加工工藝水平。到1980年代,光刻機再度升級到了步進式光刻機和步進式掃描光刻機。
每一次技術突破,都會使得半導體製造行業出現技術方向的選擇。而選對的方向,自然是贏家通吃,而選錯了方向,未來會因為技術落後,在利潤更高的高端光刻機市場,失去自己的市場份額
在80年代,歐美日等等國家擁有超過百家以上的企業,都是具備能力研發和生產光刻機的,甚至,就連東德曾經也是光刻機市場上的供應商。
而進入90年代之後,大量的光刻機廠商開始掉隊落後。歐洲的ASML在90年代初,市場佔有率也不是那麼高,甚至技術也不是太先進。真正讓這家公司爆發,則是後來2002年,率先採用了193nm浸入式光刻機。一開始,193nm浸入式光刻機並未真正的領先,一直到2004年,才是利用193nm浸入式光刻機,做到了90納米加工精度。隨後,漸漸的突破65納米、40納米、28納米,讓非浸入式光刻機望塵莫及!
尤其是,28納米時代,更是讓非浸入式光刻機廠商絕望,甚至,已經放棄了繼續研發投入,因為,不可能追趕浸入式光刻機。
也正是因為在關鍵性的技術節點上,選對了方向。所以,ASML公司在21世紀初,獨霸光刻機市場。
而佳能和尼康等等競爭對手,後來廢了老大的勁,也很製造28納米級別精度的光刻機,更何況,ASML公司並未停止進步,反而不斷將精度從28納米之後,繼續向20納米、14納米、12納米、10納米、7納米,不斷的提升。
其他的光刻機廠商,後來跟ASML的差距逐漸被拉大到十年以上。除非等到ASML專利過期,並且,未來工藝水平會長期停滯,否則,被技術差距被拉大到十年以上的程度的業界同行,基本沒有可能搶回市場。
而這次推出的光刻機,雖然工藝水平僅達到0.5微米,給侵入式光刻機技術丟人了,但是,寧可殺雞用牛刀,也不能讓技術路線的主導權,被別的廠商佔了坑。
侵入式光刻機問世后,一直是所有的對手都束手無策,只好眼睜睜的看著一家公司壟斷市場。可見,這個技術路線在未來幾十年來,代表著正確的方向。未來一直到5納米時代,技術路線上都是在2002年的技術路線上修補。
甚至可預見的未來,納米時代終結之前,這個技術是無敵的。只有納米時代之後,進入理論上存在的皮米級工藝時代,可能才會換成其他的技術路徑。但是1納米還不知道什麼時候能達到,更別說,終結了納米之後的皮米時代,有生之年能不能來臨還是未知數。
至少,在林棋和蒙欣所知的未來,人類對於材料的加工工藝精度,還未突破1納米。