第四十二章 野望

  放鬆了一天。


  黃明哲年初四就接到馬知力的報告，他連忙趕過去材料研究所。


  “社長，你終於來了。”馬知力興奮的邊走邊說。


  看著馬知力等人那滿眼血絲、頭發亂糟糟的樣子，就知道他們這些天一直在測試光敏材料規律模型。


  “老馬要勞逸結合，辦公室談吧！”黃明哲向辦公室去。


  “多謝社長關心，我一時間太興奮而已。”


  辦公室裏麵，在場隻有馬知力和四個研究員，其他人都還沒有回來上班。


  “都坐。”黃明哲坐下之後：“模型計算出來的出材效率是8.6%左右，而出材合格率是1.7%左右。”


  “是的，社長。”馬知力興奮的說道：“社長，你研發的計算模型太厲害了，簡直是材料研發的神器。”


  “宇宙萬物都在數學之中，沒有什麽不可以被計算。”黃明哲微笑著說道。


  如果之前有人在馬知力等人麵前這樣說，他們絕對會嗤之以鼻，但是現在他們已經有些相信了。


  “社長，你這個模型要是發出去，估計可以引發材料學革命。”馬知力讚歎道。


  黃明哲搖搖頭說道：“這種國際精神要不得，這個模型我們內部自己用就可以了。”


  “社長說得對。”


  “我看了你們的報告，現在我給你們下一個任務。”


  “社長請吩咐。”馬知力連忙拿出筆記本說道。


  “研發一種x射線高敏膠。”


  “x射線高敏膠?社長是想研發光刻膠吧！”馬知力一聽便知道黃明哲的打算。


  黃明哲點了點頭：“沒有錯，就是x射線級別的光刻膠，我提幾個要求，波長最好在3～8納米之間；x射線敏感度要足夠高，最好可以在幾秒鍾之內徹底溶解；另外對於x射線的能量級別，最好不需要高能級就可以實現快速光分解。”


  “社長，如果我們研發x射線光刻膠，這個可是沒有客戶的。”馬知力提醒道。


  目前市麵上的光刻機的光源，一般分為紫外光（uv）、深紫外光（duv）、極紫外光（euv），其中最先進的光刻機，就是尼德蘭的阿斯麥公司生產的極紫外光（euv），波長為13.4納米。


  但是其實在上個世紀八十年代，光刻機行業之中，還有除了極紫外光（euv）路線，還存在著另一個路線——x射線光刻機。


  為什麽波長在10納米以下的x射線光刻機，最後被極紫外光（euv）淘汰?

  原因有兩個，一是效率問題，x射線照射下光刻膠的光刻速度比較慢；二是精確度問題，為什麽說波長10納米以下的x射線，光刻精度差?因為掩模做不到10納米以下。


  掩模就是電路圖的母板，為什麽極紫外光（euv）的精度高，原因在於紫外光可以使用凸透鏡縮小從掩模過來的光線，而所有人都知道x射線的穿透力非常強，凸透鏡根本無法聚焦。


  所以x射線光刻機被淘汰了。


  市麵上沒有x射線光刻機，也就意味著沒有客戶。


  “這個問題不是問題。”


  “社長沒有客戶的話……”


  黃明哲打斷了馬知力：“知道x射線光刻機為什麽被淘汰嗎?”


  馬知力點了點頭。


  “效率問題在於光刻膠的光敏性，如果我們研發一種可以在幾秒鍾內完成光刻的x射線光刻膠，那效率還是問題嗎?”黃明哲反問道。


  “嗯?”馬知力一愣。


  確實如同黃明哲說的那樣，光刻效率問題其實就是光刻膠光敏性的影響，歸根結底就是材料問題，而材料問題不恰恰就是思維社的強項?

  “至於凸透鏡無法聚焦x射線，我們為什麽不製造一種可以聚焦x射線的凸透鏡，這個同樣是凸透鏡材料的光敏性，材料可以改變一切。”黃明哲笑著提醒道。


  “對啊！我怎麽沒有想到?”馬知力頓時瞪大眼睛。


  其他人頓時也呼吸急促起來，如果他們解決了光刻膠和凸透鏡的光敏性，豈不是相當於完成了x射線光刻機的缺點彌補。


  而x射線光刻機的先天性優勢，就是發散性低、光線集中、波長短小精悍。


  “我們要完成一個獨立自主的光刻機係統，就不能按部就班走西方人的老路，不然永遠無法超越對方。”黃明哲說道。


  這個問題其實就是國內光刻機行業發展的攔路虎，按照西方人的路線走，別人的專利怎麽繞過去?

  另外光刻機的市場非常小，全世界來來去去就那麽多家芯片製造企業，阿斯麥公司和這些芯片製造企業的關係千絲萬縷，哪怕是造出來，估計也賣不出去。


  “社長，我們馬上安排材料計算，一定拿下x射線光刻膠和x射線凸透鏡。”馬知力堅定的說道。


  “注意休息，身體是革命的本錢。”黃明哲關心的說道。


  “多謝社長關心，我一定注意。”


  “老馬，另外你們要注意保密，這個東西可是關係到一個行業的話語權，馬虎不得。”黃明哲最後提醒道。


  “我一定注意。”馬知力臉色頓時一肅。


  ……


  黃明哲隨後將蔡知行叫過來，吩咐他準備好相關工作，在國內收購x射線光源製造公司、光學鏡片製造公司等等光刻機相關的企業。


  而思維社的計算機編程研究所，本身就擁有非常強大軟件實力，畢竟黃明哲可是獨立完成了初級人工智能幽靈的存在。


  而之前的仿真空間技術、有限元逆分析技術，也可以助力光刻機的設計。


  盡管思維社買不到阿斯麥公司的極紫外光（euv）光刻機，但是上滬中微電子的低端光刻機有的是。


  買一台低端光刻機回來，然後使用有限元逆分析，先完成光刻機各個係統整合，然後一步步升級改造，國內可以購買到的零件就不用造，國內沒有的想辦法自己造。


  2月16日。


  思維社的另一個子公司悄然在汕美市掛牌成立，名字叫神光儀器公司，這個公司成立得非常低調。


  而黃明哲將專門才自己的賬戶，撥款了4個億作為初期發展資金。


  而材料研究所方麵，盡管有規律模型的輔助，但是材料研發工作沒有那麽容易。


  他也一直在材料研究所，隨著研究所的研究員們陸陸續續複工，各項工作進度正在加快之中。


  “老馬，人員不夠可以向蔡經理說，讓他多招聘一些人。”


  “我晚上整理一下，列出一個缺口名單。”馬知力對於黃明哲，現在那是佩服到極點。


  除了光敏材料規律模型，黃明哲這些天又完成了彈性材料規律模型、電容材料規律模型。


  這兩個規律模型對於未來的材料學研究，都有非常多應用。


  彈性材料就是不用說了，電容材料通俗的說，就是電能儲存材料，和電池差不多。


  交代了一些事情之後，黃明哲便踏上去學校的路途。